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大直径CVD片的研磨抛光技术

2020/11/3 10:37:03

所需技术成熟度:中试技术

技术需求企业拟投资金额(万元):500-1000万元

技术需求简述:大直径CVD片的研磨抛光技术:直径在50毫米以上的CVD片的研磨平整度可保证公差在3微米以内,抛光的光洁度可保证误差在0.05微米以内。

如您感兴趣,可通过电话:0371-65756081、邮箱:hnscxyj@163.com联系豫科盟秘书处。

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