技术成熟度：中试技术

转让方式：技术转让

预计投资资金(万元)：500-1000万元

成果简述：成果简介
传统的 CVD 法合成石墨烯质量较好，但能耗及成本较高，在一定程度上限制了石墨烯的发展。我们提出一种新型制备方法，温度低、时间短，工艺流程简单，可实现石墨烯薄膜快速制备，扩宽其应用范围。我们制备的石墨烯薄膜产品，包括单层、少层、多层石墨烯薄膜。
前期工作表明，该技术能有效还原氧化石墨烯，并一步还原制备出金属石墨烯纳米复合材料。我们采用石墨作为原料已成功地实现了石墨烯的制备，并通过控制工艺参数初步实现了对所得石墨烯层数和尺寸的控制。同时我们具备先进的研究平台和研究条件，在石墨烯材料制备、材料生长系统、电化学表征测试及器件组装等方面建立了一整套较为系统完善的具有国际先进水平的技术支撑平台，可提供重要的实验设备保障。
主要技术指标
尺寸 1cm2-5cm2
方阻 200-400Ω
500nm 下透光率达 96%
应用领域
应用服务领域包括电子、半导体芯片刻蚀、生物医疗、新能源、环境监测与治理、精密制造、智能装备等。
市场前景
智能设备的快速增长为石墨烯薄膜在柔性显示领域替代 ITO 打开了市场空间，替代性需求巨大。目前市场上的 ITO，包括其替代材料，均有不同程度的缺陷，这给石墨烯提供了足够的替代空间。2020 年我国石墨烯薄膜的市场规模将达 140 亿元左右，2023 年柔性显示市场将达 677 亿美元。
合作模式
与企业开展产学研用合作或技术转让。