技术成熟度：实验室技术

转让方式：技术转让

预计投资资金(万元)：1000万以上

成果简述：成果简介
随着微电子、精密仪器、光伏能源等领域的飞速发展，针对半导体芯片、精密零部件、太阳能电池、锂电池等器件中涉及微小缺陷（<100μm）无损检测的需求日益增长。基于微焦点 X 射线的无损检测成像，因为波长短、穿透力强、准直度高等特点，被认为是解决上述问题的重要技术路线。现有微焦点 X 射线成像技术存在检测速度慢等缺点，且主要被国外企业垄断。通过设计加工新型基于碳纳米材料冷阴极的 X 射线源并整合脉冲探测成像系统，我们研制出一套具有自主知识产权的基于冷阴极 X 光源的微焦点实时无损检测系统。
性能参数
X 射线能量：80keV，工作电流：200μA，成像分辨率：<100μm。
知识产权
1. 一种多孔石墨烯薄膜场发射阴极 201410373851.0
2. 一种利用类金刚石薄膜提高碳纳米管场发射性能的方法 201410373870.3
3. 直孔通道平面式场发射三极结构 100596340
4. 基于石墨烯的场发射三极结构 202275794U
5. 基于场发射冷阴极的阵列 X 射线源 202142495U
市场前景及效益分析
高端检测机每台在30万-50万元，国内需求量在5000台以上(15亿以上)；标准检测机每台在10万元左右，国内需求量在10000台以上(10 亿以上)。