技术成熟度：实验室技术

转让方式：技术入股

预计投资资金(万元)：500-1000万元

成果简述：随着等离子体增强化学气相沉积技术在太阳能薄膜光伏电池、大规模集成电路、平板显示器及材料表面改性等领域应用的迅速发展，人们迫切地需要大面积均匀、高沉积/ 刻蚀速率的低温等离子体技术。最近十年来，一种线形等离子体源备受等离子体业内专家的重视。线形等离子体源可以做到很长且轴向均匀，达到 1m以上。采用多个线形等离子体源并排，或与被镀样片在水平/ 垂直方向上缓慢运动，都可形成大面积沉积薄膜的优良设备。
将磁镜场约束与线形微波等离子体技术相结合，获得高密度、均匀稳定的等离子体，所研究项目在国内外未见报道，具有创新性及完全自主知识产权。
通过本项目的研究，可建立高密度、均匀稳定磁镜场约束线形微波等离子体的产生条件和优化方法，为实现高密度、大面积均匀稳定等离子体源及其应用提供思路。