技术成熟度：产业化技术
转让方式：技术转让
预计投资资金(万元)：500-1000万元
成果简述：项目简介：本项目采用冷喷涂在铝合金腔体表面喷涂防护涂层，或对铸造铝合金缺陷进行修复，满足其使用要求。该技术提供一种等离子刻蚀腔体表面防护涂层的制备方法，该涂层能减少或阻止腐蚀性气体对腔体的腐蚀和金属离子对半导体晶片的污染，提高等离子体刻蚀晶片生产中反应室腔体材料的使用寿命。
技术特点(包含主要技术指标）：本项目利用冷喷涂低温高速的特点，一方面在铝合金表面喷涂防护涂层，解决铝合金在强腐蚀介质中的腐蚀问题，同时保持铝合金零部件的尺寸精度；另一方面也可以对具有铸造缺陷或磨损的铝合金部件进行修复，满足其使用要求。
应用领域：大规模集成电路等离子体刻蚀腔体表面防护。
