技术成熟度：中试技术

转让方式：技术入股

预计投资资金(万元)：500-1000万元

成果简述：项目简介：本项目主要利用微波化学气相沉积或热丝 CVD 的方法在不同衬底上生长各类型金刚石薄膜（单晶、多晶及多孔金刚石）以满足特殊超硬材料的机械加工和航空航天及微电子等领域对关键材料和技术的需求。
技术特点(包含主要技术指标）：
本技术主要利用微波化学气相沉积法在不同的衬底上生长各种不同类型的金刚石薄膜，可应用于金刚石高频高能微电子机械系统、功能防护涂层和透明电极、金刚石基生物传感器，IR、紫外以及 X 光的窗口，场发射器件，远紫外激光器的制备等等。在硬质合金上生长的金刚石膜与基体之间有良好的结合力，可应用于轻金属和碳材料的机械加工。此外，本技术工艺简单，成本低廉，适合于工业推广和应用。
生长面积：≤3 英寸
沉积速率：<10mm/h
种类：高质量微米级金刚石薄膜，纳米金刚石薄膜，类金刚石膜(DLC)，导电金刚石薄膜，（100）取向金刚石膜，金刚石/SiC 复合膜等。
基体：Si，WC，Mo，石墨等，也可以是独立的金刚石薄膜
厚度：3～50 微米
硬度：50-100GPa
应用领域：
金刚石电子器件
 金刚石切削刀具
 金刚石硬质涂层
 金刚石窗口
电子器件散热层